半導体（電子産業）
ＵＶによる殺菌およびTOC分解に効果、ＵＶエネルギーの新しい可能性に挑戦。
半導体や液晶など電子産業での洗浄用の超純水では、殺菌はもちろんのこと、TOC分解も欠かすことができません。
ステリトロンWOXシリーズは、酸化剤を使用せず184.9nmのUVによりTOCを直接分解。限りない低TOC化(pptレベル)のニーズにお応えします。また、流水型紫外線殺菌装置UEXシリーズは、従来の殺菌装置に比べ、効率よく経済的に無菌水を作ることができます。
特長
●殺菌ランプと同じ253.7ｎｍの波長に加え、よりエネルギーの高い184.9ｎｍを同時に放射することができます。
●184．9ｎｍは水や酸素に吸収されやすく、水中で酸化力の非常に強いヒドロキシラジカル（OH・ラジカル）を生成。 ヒドロキシラジカルは、ほとんどの有機物を分解することが可能です。
用途
●電子産業工場の超純水、超々純水のTOC分解など。
使用例
●電子産業業界超々純水プラントライン
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